Ученые Южного федерального университета создали на базе оксида цинка наночастицы, которые помогают выращивать помидоры в тяжёлых условиях засолённых почв. Об этом стало известно из сообщения центра общественных коммуникаций университета.
В настоящее время примерно 7% всех земель в мире (а это 1 миллиард гектаров) страдают от засоления. В таких почвах растениям сложно получать воду, они засыхают и умирают. Более того, по прогнозам, к 2050 году более половины всех пахотных земель на планете будут подвержены засолению и станут непригодными для выращивания сельскохозяйственных культур.
Однако учёные из Южного федерального университета и их коллеги из Индии смогли найти способ снизить негативное влияние засоления на семена.
Исследователи разработали специальные наночастицы на основе оксида цинка. Эти частицы помогают выращивать томаты в условиях засоления.
Цинк — важный микроэлемент для роста растений. Благодаря своему небольшому размеру наночастицы могут проникать в ткани растений.
Использование наночастиц ускоряет рост и повышает всхожесть семян, а также увеличивает содержание питательных веществ в плодах.
Исследователи провели эксперименты с растворами наночастиц, варьируя их концентрацию и продолжительность воздействия на семена. В результате был определён оптимальный режим: семена, которые замачивали в течение шести часов, показали на 12,6% более высокую всхожесть и на 20% более быстрые темпы прорастания в засоленной почве по сравнению с необработанными семенами.
«Это хороший подход — замачивать семена в растворе наночастиц и высаживать в засоленных почвах. Сейчас мы собираемся расширить этот подход и на другие культуры, а также стандартизировать технологию, чтобы ее могли использовать фермеры», — рассказывает Вишну Раджпут, заведующий Международной лабораторией нанобиотехнологий АБиБ ЮФУ.
Отметим, что исследование осуществляется в соответствии с федеральным проектом «Приоритет 2030» (национальным проектом «Наука и университеты») и направлено на разработку систем управления почвенными ресурсами в рамках проекта ЮФУ.